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scia Magna 700

scia Magna 700 磁控溅射镀膜系统是专门为高精度光学多层膜制造而设计的,在直径为Φ680mm以内的平面或曲面基底上,镀制超过100个周期的超薄多层膜,可以镀高精度均匀膜或渐变膜。配以自动化的样品装载loadlock机构,可以缩短装载时间并提高产能。

常规属性

- 磁控溅射技术利用等离子体离子轰击溅射靶材,从而在样品基底表面沉积薄膜

- 利用同步样品公转和自转在曲面衬底上形成均匀或梯度薄膜

- 有6个磁控源,每个磁控源都有单独的外壳,以独立供气并设定各自的粒子溅射曲线

- 可选预处理离子源

- 带有loadlock的样品载具操作机构,具有2个独立的样品工位

- 样品面朝下装载,以减小粒子污染

系统性能

scia Magna 700

样品尺寸

Φ700 mm, 130 kg

溅射源

6个矩形磁控源 (600 mm x 90 mm), 可选离子源

溅射模式

DC : 连续 或 脉冲(1 kW)或 RF (1 kW,13.56 MHz)

参考溅射速率

Cr: 45 nm/min, Si: 22 nm/min, Ti: 22 nm/min

均匀性变化

Φ300 mm :< 0.1 % (σ/mean) ,

Φ450 mm :< 0.2 % (σ/mean) .

基础真空

< 1 x 10-8 mbar

系统尺寸 (W x D x H)              

7.90 m x 4.40 m x 3.50 m (不含电控柜与真空泵)                 

软件界面

OPC


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